首页资讯行情产品报价笔记本台式机数码手机MP3/MP4DC/DVLCDCPU主板显卡音频键鼠经销商下载论坛博客

今日导读

热点推荐

数码频道

当前位置:数码首页>移动存储 > 闪存 > 新闻 > 英飞凌设计出20nm工艺Flash

英飞凌设计出20nm工艺Flash Cell芯片

2004-12-18 09:37:10 作者:文三街在线 来源:文三街在线 浏览次数:176 文字大小:【大】【中】【小】
  

    著名的半导体厂商英飞凌(Infineon)于昨天宣布其完成了20nm非易失闪存芯片,这种芯片的尺寸仅是人头发丝的1/5000粗细。同时其宣布不用多久就可以完成32Gbits的存储能力。Infineon的这种闪存芯片采用了三维结构设计,因此来避免半导体的干扰问题。这种FinFETs结构中,氮化物作为存储电子的载体,而硅则成为门电极。其中一个电极阀的厚度仅为8nm,其完整是实现了对20nm门电极的控制。

    Infineon宣称如果采用现有的结构来设计这种产品需要把体积增加10倍,也就是说目前完成这个结构仅需要100个电子,而100个电子已经接近于金原子所对应的电子数了,这种结构会对今后的半导体业产生重要影响。

设为首页】 【收藏此页】 【返回顶部】 【关闭

精彩专题

应用技巧