英飞凌设计出20nm工艺Flash Cell芯片
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著名的半导体厂商英飞凌(Infineon)于昨天宣布其完成了20nm非易失闪存芯片,这种芯片的尺寸仅是人头发丝的1/5000粗细。同时其宣布不用多久就可以完成32Gbits的存储能力。Infineon的这种闪存芯片采用了三维结构设计,因此来避免半导体的干扰问题。这种FinFETs结构中,氮化物作为存储电子的载体,而硅则成为门电极。其中一个电极阀的厚度仅为8nm,其完整是实现了对20nm门电极的控制。 Infineon宣称如果采用现有的结构来设计这种产品需要把体积增加10倍,也就是说目前完成这个结构仅需要100个电子,而100个电子已经接近于金原子所对应的电子数了,这种结构会对今后的半导体业产生重要影响。 |
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